上海交大团队在共沉积倒置钙钛矿太阳能电池中实现27.03%认证效率,为该架构全球最高纪录
B910化工消息:6月3日消息,上海交通大学和山东师范大学联合团队在Nature Communications发表研究论文,报告在共沉积倒置钙钛矿太阳能电池中实现27.03%的认证光电转换效率(准稳态26.50%),刷新该架构的全球最高效率纪录。
该研究的核心挑战在于:在倒置(p-i-n)钙钛矿电池的制造中,自组装分子(SAM)常被用作空穴选择性接触材料。但在共沉积工艺中,将SAM直接混入钙钛矿前驱体溶液时,SAM分子倾向于发生自聚集,导致界面覆盖不均匀,严重限制器件性能。
通讯作者陈春超团队提出了双管齐下的策略。首先,研究团队设计了一种非对称SAM分子——PhBr-4PACz。该分子引入了体积较大的苯环和溴取代基,通过空间位阻效应抑制平面分子之间的面对面π-π堆叠,从而有效防止SAM的自聚集。在钙钛体结晶过程中,PhBr-4PACz能够自发向底界面迁移并在埋底界面富集,显著改善了界面附着力和覆盖均匀性。XPS、C-AFM和剥离测试均证实了这一效果。
其次,团队引入了可交联离子液体1-烯丙基-3-乙烯基咪唑氯化物(AVIMCl)作为晶界交联添加剂。AVIMCl渗透至钙钛矿晶界并在低温下发生原位交联反应,不仅减少了残余应力,还几乎完全抑制了SAM沿晶界向上的扩散——ToF-SIMS三维剖面分析确认了这一效果。这一机制对于高温长期稳定性尤为重要。
最终器件结构为FTO/钙钛矿(PhBr-4PACz)/AVIMCl/PCBM/BCP/Cu。除FTO基底上的27.03%效率外,该策略在ITO基底上实现了26.55%的效率,在柔性PET/ITO基底上达到25.03%,在8.905平方厘米的迷你组件上获得23.68%的效率。
在稳定性方面,未封装器件在85°C下老化2000小时后保持初始效率的90%以上;在65°C最大功率点跟踪2000小时后保持96.6%的效率。这些数据表明,通过晶界交联策略可有效解决SAM在热应力下的迁移问题。
在当前钙钛矿太阳能电池领域,27%效率是一个关键门槛,已接近单晶硅电池约27.3%的理论-实验基准线。近期全球多家实验室在这一水平附近竞争,包括南开大学报告的27.17%、中国科学院的27.2%以及SolaEon的27.87%。上海交大团队的独特贡献在于,这是共沉积倒置架构下实现的最高效率,而该工艺路线因制程简化、兼容卷对卷生产等优势,被认为是钙钛矿产业化最具前景的技术方向之一。
陈春超表示,团队下一步计划将共沉积策略扩展到大面积组件制造,并适配狭缝涂布和刮刀涂布等工业级涂覆技术,同时进一步优化SAM和交联剂设计以提升开路电压、降低复合损失。 (来源:PV Magazine)
该研究的核心挑战在于:在倒置(p-i-n)钙钛矿电池的制造中,自组装分子(SAM)常被用作空穴选择性接触材料。但在共沉积工艺中,将SAM直接混入钙钛矿前驱体溶液时,SAM分子倾向于发生自聚集,导致界面覆盖不均匀,严重限制器件性能。
通讯作者陈春超团队提出了双管齐下的策略。首先,研究团队设计了一种非对称SAM分子——PhBr-4PACz。该分子引入了体积较大的苯环和溴取代基,通过空间位阻效应抑制平面分子之间的面对面π-π堆叠,从而有效防止SAM的自聚集。在钙钛体结晶过程中,PhBr-4PACz能够自发向底界面迁移并在埋底界面富集,显著改善了界面附着力和覆盖均匀性。XPS、C-AFM和剥离测试均证实了这一效果。
其次,团队引入了可交联离子液体1-烯丙基-3-乙烯基咪唑氯化物(AVIMCl)作为晶界交联添加剂。AVIMCl渗透至钙钛矿晶界并在低温下发生原位交联反应,不仅减少了残余应力,还几乎完全抑制了SAM沿晶界向上的扩散——ToF-SIMS三维剖面分析确认了这一效果。这一机制对于高温长期稳定性尤为重要。
最终器件结构为FTO/钙钛矿(PhBr-4PACz)/AVIMCl/PCBM/BCP/Cu。除FTO基底上的27.03%效率外,该策略在ITO基底上实现了26.55%的效率,在柔性PET/ITO基底上达到25.03%,在8.905平方厘米的迷你组件上获得23.68%的效率。
在稳定性方面,未封装器件在85°C下老化2000小时后保持初始效率的90%以上;在65°C最大功率点跟踪2000小时后保持96.6%的效率。这些数据表明,通过晶界交联策略可有效解决SAM在热应力下的迁移问题。
在当前钙钛矿太阳能电池领域,27%效率是一个关键门槛,已接近单晶硅电池约27.3%的理论-实验基准线。近期全球多家实验室在这一水平附近竞争,包括南开大学报告的27.17%、中国科学院的27.2%以及SolaEon的27.87%。上海交大团队的独特贡献在于,这是共沉积倒置架构下实现的最高效率,而该工艺路线因制程简化、兼容卷对卷生产等优势,被认为是钙钛矿产业化最具前景的技术方向之一。
陈春超表示,团队下一步计划将共沉积策略扩展到大面积组件制造,并适配狭缝涂布和刮刀涂布等工业级涂覆技术,同时进一步优化SAM和交联剂设计以提升开路电压、降低复合损失。 (来源:PV Magazine)




