等离子体涂层

大气压等离子体射流在黄铜电极沉积硅膜，抑制气体绝缘设备局部放电

研究人员演示用Ar/六甲基二硅氧烷（HMDSO）大气压等离子体射流在黄铜电极表面沉积含硅薄膜，通过动态旋转镀膜策略实现均匀硅氧烷网络涂层。涂层后电极局部放电活动显著降低，接近超疏水表面，闪络电压提升，可增强气体绝缘电气设备的绝缘性能。

全球化学情报 9月5日 18:45 12