丙烷脱氢Ga催化剂再生机制揭晓:氢气高温处理引发Ga位点歧化与流失
ChemRxiv预印本追踪工业丙烷脱氢Ga/SiO2催化剂在650°C氢气再生下的结构演变:Ga3+先转为亚稳ºSiO–Ga1+位点并歧化为Ga0与Ga3+,Ga0与硅羟基、水反应生成大颗粒k-Ga2O3,且镓以挥发性Ga2O流失——为Ga基催化剂反复再生中的性能衰减补上分子级机理。
共 1 篇 · B910化工 · AI 化学信息库
ChemRxiv预印本追踪工业丙烷脱氢Ga/SiO2催化剂在650°C氢气再生下的结构演变:Ga3+先转为亚稳ºSiO–Ga1+位点并歧化为Ga0与Ga3+,Ga0与硅羟基、水反应生成大颗粒k-Ga2O3,且镓以挥发性Ga2O流失——为Ga基催化剂反复再生中的性能衰减补上分子级机理。