密歇根大学开发光敏分子涂层:紫外光一键降低炸药敏感性,可见光可逆恢复
研究人员在炸药颗粒表面包裹光敏分子涂层,紫外光照射下涂层分子构型改变,同时降低炸药敏感度并使颗粒显紫色;用强可见光照射即可逆转。成果为现场按需调节含能材料敏感性提供了首个分子级手段(JACS,密歇根大学Adam J. Matzger团队)。
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研究人员在炸药颗粒表面包裹光敏分子涂层,紫外光照射下涂层分子构型改变,同时降低炸药敏感度并使颗粒显紫色;用强可见光照射即可逆转。成果为现场按需调节含能材料敏感性提供了首个分子级手段(JACS,密歇根大学Adam J. Matzger团队)。