7月28日消息，东洋工程韩国公司（Toyo Engineering Korea）宣布获得韩国Hantok Chemicals的四甲基氢氧化铵（TMAH）生产设施建设合同，项目奠基仪式近日已在韩国举行。

TMAH是一种强碱性季铵盐，分子式为N(CH3)4OH，是半导体制造光刻工艺中不可或缺的显影液。在光刻工序中，TMAH显影液用于溶解曝光后的光刻胶，精确形成芯片图案。随着先进制程（7nm及以下）对光刻精度要求的提升，高纯度TMAH的需求持续增长。

全球TMAH市场长期由少数几家日本和韩国企业主导，包括宇部兴产（UBE）、东京应化（TOK）、住友化学和LG Chem等。韩国作为全球最大半导体制造国之一（三星电子和SK海力士总部所在地），近年来大力推进半导体材料国产化，降低对日本进口的依赖。2019年日本对韩出口管制事件后，韩国政府和企业加速投资光刻胶、高纯氟化氢、TMAH等关键电子化学品。

Hantok Chemicals的TMAH项目是韩国半导体材料本土化战略的组成部分。东洋工程（Toyo Engineering）是日本领先的化工EPC承包商，在精细化学品和电子化学品工厂工程方面经验丰富，其韩国子公司在韩国本土化执行方面具有优势。该工厂的建设将进一步提升韩国TMAH的本土供应能力，支撑三星和SK海力士的扩产计划。 （来源：Process Worldwide）