9月8日消息，日东电工（Nitto Denko，总部大阪）与集团旗下膜企业Hydranautics宣布，9月起发售面向高难度工业废水再利用的抗污染反渗透（RO）膜元件「PRO-XR1-X-LD」，适用于半导体、矿山及一般工业制造过程中产生的高难度排水处理与回用。

需求背景上，近年来半导体、矿山与工业领域扩张使各制造工艺用水量增加，叠加废水排放法规趋严与全球水资源高效利用要求，高效水回用技术需求迫切。RO膜是利用微孔去除水中杂质的分离材料，广泛用于工业用水制造与废水回用，但工业废水中含大量有机物与微细颗粒等致膜污染成分，需频繁化学清洗与更换膜元件以维持处理性能，推高运行成本与环境负荷。

新产品开发聚焦抑制高难度废水处理中的膜污染课题：通过日东电工自有表面涂层技术与流道结构优化，抑制有机物和胶体颗粒在膜面附着，在维持高杂质截留率的同时缓解污染导致的性能劣化，实现难处理废水条件下的稳定处理性能与高效水回收。由于清洗频率降低，膜寿命较传统产品可延长约2倍，同时降低维护负荷与运行成本，并通过水资源高效回用降低制造过程整体环境影响。

产业布局上，日东电工2026年5月发布的中期经营计划将「Green Tech」定位为成长领域之一，分离膜业务位列其中。Hydranautics为全球膜解决方案企业，覆盖反渗透、纳滤与微滤，全球膜事业部总部位于美国加州Oceanside，在Oceanside与日本滋贺设有两座制造基地。在半导体产业扩张带动超纯水与废水回用需求增长的背景下，两家公司通过抗污染膜产品切入高附加值水处理市场。 （来源：Nitto Denko）