9月8日消息，日东电工（Nitto，总部大阪，社长赤木达哉）宣布，面向半导体制造等各类工业高难度废水回用场景的耐污染反渗透（RO）膜元件「PRO-XR1-X-LD」自2026年9月起发售，由集团膜企业Hydranautics（海德能）协同推广。

发布于2026年9月7日，首销窗口即9月，由日东电工与Hydranautics联合推向半导体、矿山及工业制造废水处理市场。据公司介绍，近年来半导体等产业扩张使制造过程用水量持续增加，叠加全球水资源有效利用、环境负荷削减要求趋严和废水排放监管收紧，产业废水回用需求正在扩大。而半导体制造工序废水中含有大量有机物和微粒子等导致膜污染（fouling）的成分，污染加剧后处理性能下降，膜清洗与更换频次上升，推高运行成本与环境负荷。

新产品瞄准高难度废水处理中最大的痛点——膜污染。其核心改进有二：一是独家表面涂层技术，抑制有机物与胶体颗粒在膜面附着；二是流路（进水流道）结构优化。两者配合使膜在高污染负荷废水条件下仍保持高杂质去除率，抑制污染导致的性能衰减，实现稳定处理性能与高效水回收。由于膜清洗频率下降，膜寿命较公司以往产品延长约2倍（公司评估条件），可降低维护负担与运行成本，并通过水资源高效回用降低制造全过程的环境足迹。

产业背景方面，该产品属于日东电工面向高处理难度工业用途的「PRO系列」RO膜产品线（ZLD零液体排放系统适用系列）的强化举措。在2026年5月发布的中期经营计划中，日东电工将包括分离膜业务在内的「Green Tech（绿色科技）」定位为增长领域之一，此次新品是该战略下的具体产品落地。公司表示将继续面向半导体等产业水处理需求提供产品与解决方案。

竞争格局看，工业废水回用RO膜市场长期由杜邦FilmTec、东丽、日东电工/Hydranautics、LG水务等巨头主导，耐污染改性（表面涂层、宽流道）是各家争夺高难度废水场景的主要技术路线。随着全球半导体新建产能（尤其美日）陆续投产，晶圆厂超纯水制备与废水回用系统需求同步放大，具备长寿命、低清洗频次的耐污染膜可直接降低全生命周期成本，日东电工此次以「约2倍膜寿命」为卖点切入，意在强化其在半导体水处理这一高附加值细分市场的份额。 （来源：Nitto Denko）