单层氮化硼/金属界面的"皱纹"调控光激发电子动力学
8月20日发布于arXiv的研究通过理论与计算揭示:单层六方氮化硼(h-BN)与金属衬底之间的界面起伏(corrugation)能够调控光激发电子在界面处的转移与弛豫动力学。 h-BN作为二维绝缘体是范德华异质结的关键衬底与隧穿层,该工作把"界面几何起伏"确立为界面电子动力学的可设计自由度。
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8月20日发布于arXiv的研究通过理论与计算揭示:单层六方氮化硼(h-BN)与金属衬底之间的界面起伏(corrugation)能够调控光激发电子在界面处的转移与弛豫动力学。 h-BN作为二维绝缘体是范德华异质结的关键衬底与隧穿层,该工作把"界面几何起伏"确立为界面电子动力学的可设计自由度。