SK Nexilis开发高粘附碳涂覆铜箔:适配硅负极与干法电极工艺,目标2027年下半年商业化
SKC旗下铜箔公司SK Nexilis于10月20日宣布开发出高粘附碳涂覆铜箔,通过在铜箔表面涂覆特种碳材料增强与负极材料的结合力,解决硅负极充放电体积膨胀导致的剥离难题,并可适配干法电极工艺。公司已启动中试线建设,以井邑工厂为中心推进工艺验证,计划2027年下半年实现商业化。
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SKC旗下铜箔公司SK Nexilis于10月20日宣布开发出高粘附碳涂覆铜箔,通过在铜箔表面涂覆特种碳材料增强与负极材料的结合力,解决硅负极充放电体积膨胀导致的剥离难题,并可适配干法电极工艺。公司已启动中试线建设,以井邑工厂为中心推进工艺验证,计划2027年下半年实现商业化。