半导体工艺

arXiv：钼碲化物薄膜空气降解机制破解，金属盖层保护策略给出实用指南

8月21日消息，波兰科学院联合团队在arXiv发文，系统研究了外延2H-MoTe2薄膜的空气降解路径与Co/Ni金属盖层保护效果：盖层可抑制短期氧化，但随时间形成界面键合难以脱除；厚度依赖的时效行为差异为工艺窗口提供指南。

B910化工 8月21日 06:24 5