EPFL等离子体灰化破解硅混合单层掺杂表征难题：去碳保磷，助力纳米器件超浅结
洛桑联邦理工学院研究人员在硅混合单层掺杂（MMLD）中引入氧等离子体灰化工艺，XPS证实其可在保留表面磷的前提下清除残余碳；KPFM显示硅功函数随ADP浓度系统性下降，蒸发SiO2加盖结合等离子处理的组合最接近n型行为。成果发表于《Small Methods》。
硅掺杂
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洛桑联邦理工学院研究人员在硅混合单层掺杂（MMLD）中引入氧等离子体灰化工艺，XPS证实其可在保留表面磷的前提下清除残余碳；KPFM显示硅功函数随ADP浓度系统性下降，蒸发SiO2加盖结合等离子处理的组合最接近n型行为。成果发表于《Small Methods》。
