10月25日消息，据《经济时报》化工频道报道，默克（Merck KGaA）在韩国启用新的钼（molybdenum）生产设施，以支持下一代芯片制造。新工厂将生产二氯二氧化钼（MoO₂Cl₂）——先进半导体制造中的关键前驱体材料，同时强化本地供应与生产可靠性。

该产品面向化学气相沉积（CVD）与原子层沉积（ALD）工艺，是现代芯片薄膜制造的核心环节，并将与默克CHEMKEEPER输送系统配套，形成"化学材料+输送设备"一体化方案，目标是在大批量制造中实现稳定物料流、高工艺开机率与超过99%的材料利用率，同时降低整体拥有成本。

钼在半导体议程中的地位正在上升：随着器件几何尺寸缩小与结构复杂化，其应用预计将从3D NAND存储扩展至DRAM字线及未来逻辑器件，反映半导体设计优先级的整体转向。AI对更小、更快、更省电芯片的需求，正推动材料供应商从单一材料销售转向材料+设备+工艺的组合模式。

报道同时指出，对印度化工行业而言，这一动向凸显特种化学品与半导体级材料领域的机遇，随着芯片制造商寻求更可靠的材料供应，相关技术、投资与供应能力的竞争将加剧。默克电子科技业务近年持续在亚洲布局半导体材料产能，韩国新设施是其先进制程材料组合的最新落子。 （来源：ET Chemical News）