半导体材料

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日本TOK与AIMECHATEC设立合资公司,联手攻坚先进半导体封装三维集成技术

东京应化(TOK)10月20日宣布与持股17.56%的设备厂商AIMECHATEC设立合资公司Zero Newton Solutions,TOK出资51%,定于10月31日成立,资本金1.5亿日元。合资公司将整合TOK材料技术与对方设备技术,开发材料+设备+工艺一体化方案,加速面板级封装(PLP)等下一代先进封装技术开发,先进封装材料-设备协同开发模式再添一例。

B910化工 10月21日 07:23 136

默克EMD Electronics调查:先进封装材料成半导体技术路线图最关键环节,高纯化学品与ALD前驱体紧随其后

EMD Electronics(默克集团北美电子业务)10月15日在Semicon West发布200人行业调查:Gartner预测2026年全球半导体收入1.6万亿美元、同比增92%;75%受访者称熟练劳动力是本土投资最大障碍,59%认为先进封装材料对公司技术路线图最关键,超高纯化学品溶剂(42%)与ALD前驱体(39%)位列其后,凸显电子材料供应的战略权重。

B910化工 10月16日 20:02 124

缺陷调控硅基复合支架实现无牺牲剂光催化制氢,析氢速率达1954 μmol·h⁻¹·cm⁻²

npj Clean Energy研究报道n型支架式Si-Zn0.3Mg0.7O半导体复合材料的自支撑形态可在无牺牲电子给体条件下光催化制氢,100瓦钨灯照射下最佳支架析氢速率1954 μmol·h⁻¹·cm⁻²,材料经800摄氏度镁热还原成型与650-950摄氏度煅烧强化,规避粉体催化剂回收难题,商业规模尚未验证。

B910化工 10月13日 19:51 132

劳伦斯伯克利国家实验室:EUV光刻技术可打印比头发细五万倍的微观图形

美国能源部劳伦斯伯克利国家实验室(Berkeley Lab)X射线光学中心(CXRO)发文回顾EUV光刻技术的研发历程:该技术可打印比人发细五万倍的电路图形,使单颗芯片集成超1000亿晶体管成为可能。自2019年商业化以来,EUV光刻已成为延续摩尔定律的关键支撑,CXRO与产业界20余年的合作研究构成了技术突破的重要基础。

B910化工 10月3日 20:01 198

东北大学氧化锌量子点实现快速电荷检测,为自旋量子比特补上关键读出技术

日本东北大学联合NIMS与东京大学在氧化锌器件中同时实现电荷传感、高频反射测量与少电子双量子点形成三项关键技术,为ZnO自旋量子比特的开发与评估扫清障碍。氧化锌具备低核自旋环境(利于保持电子自旋态)与直接带隙(可光学耦合),被视为硅和砷化镓之外的替代量子材料,成果发表于《物理评论应用》。

B910化工 10月1日 02:11 269