苏黎世联邦理工把发光聚合物做成光刻胶：纳米级OLED像素比现有微显示器小十倍
ETH Zurich团队在Nature发文，将星形聚合物发光中心与光反应端基结合，使OLED发光材料本身成为光刻胶，用半导体级光刻工艺直接图案化出200纳米级全彩像素，尺寸不到现有微显示器最小像素的十分之一。工作样机效率13.3%、寿命仍短，商业化预计需5-10年。
光刻
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无需一滴白色颜料：京都大学开发深泡沫光刻白色功能材料平台
京都大学iCeMS研究所Easan Sivaniah团队联合东京都立大学与东华大学，开发出深泡沫光刻（DFP）工艺：光裂解-溶剂溶胀一步形成微孔网络，使材料无需钛白粉与PFAS即获高白度与疏水性，分辨率达20000 DPI，可用于薄膜与织物，直面TiO2禁令与PFAS监管两大替代需求。