氮化镓

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东京理科大学首次在GaN衬底上外延生长出极性钨锌矿NbAlN半导体薄膜

东京理科大学小林笃志团队联合东京大学、三重大学,用反应溅射外延首次在GaN衬底上生长出单晶极性钨锌矿氮化铌铝(NbAlN)薄膜,铌含量最高25%仍保持与GaN一致的晶体结构与金属极性;插入NbAlN势垒层后异质结构面电子密度从5.1×10^12提升至1.7×10^13 cm^-2,增幅超三倍,成果发表于《Advanced Materials》,为GaN功率/射频器件设计开辟了新的过渡金属氮化物材料家族。

B910化工 9月8日 12:18 90

芝加哥大学联手阿贡实验室突破“不可能”合成:金属氮化物纳米晶体制备新方法登上《自然》

芝加哥大学与阿贡国家实验室的研究团队在《自然》发表研究,利用熔融盐介质与温度-氨气压的特定组合,首次实现金属氮化物纳米晶体的可控制备,一次解锁近12种传统方法无法合成的材料,包括氮化镓、氮化钛、氮化铌和氮化钼。这类纳米晶体可掺入聚合物、喷墨打印或织入织物,为柔性照明、医用植入物、超导体和催化剂开辟全新应用空间。

B910化工 8月31日 06:09 137