8月21日消息，日本精细化工企业ADEKA宣布，将扩充面向半导体先进光刻工艺的光刻胶用光酸产生剂（PAG）产能，在千叶工厂（千叶县袖浦市）现有厂房内新增一条生产线，产能较目前提升至约2倍。

根据公司公告，本次扩产对象为包括EUV（极紫外）光刻在内的先进半导体光刻工艺所用半导体光刻胶的光酸产生剂。项目计划2027年1月启动建设，2028年2月完成施工，2028年9月开始商业化运营。

ADEKA在公告中阐述了扩产逻辑：半导体已成为当今全球经济中的战略性材料，全球范围内对半导体产业的投资持续加速，半导体市场预计到2026年将扩张至约1.5万亿美元规模，带动包括光酸产生剂在内的光刻胶材料需求强劲增长。其中EUV光刻在先进逻辑芯片制造中的渗透不断加深，对高端PAG的供应能力提出更高要求。

光酸产生剂是化学放大型光刻胶的核心功能组分，在曝光环节产生酸并驱动后续显影反应，其纯度与性能直接影响光刻分辨率与良率。ADEKA是全球PAG市场的主要供应商之一，此次在日本国内增设产线，意在把握先进制程材料需求增长与供应链本土化双重机遇，巩固其在半导体材料领域的地位。 （来源：ADEKA）