劳伦斯伯克利国家实验室：EUV光刻技术可打印比头发细五万倍的微观图形
美国能源部劳伦斯伯克利国家实验室（Berkeley Lab）X射线光学中心（CXRO）发文回顾EUV光刻技术的研发历程：该技术可打印比人发细五万倍的电路图形，使单颗芯片集成超1000亿晶体管成为可能。自2019年商业化以来，EUV光刻已成为延续摩尔定律的关键支撑，CXRO与产业界20余年的合作研究构成了技术突破的重要基础。
光刻胶
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塔塔电子联手住友化学，锁定Dholera晶圆厂光刻胶与高纯化学品供应
塔塔电子与住友化学签署谅解备忘录，住友将向塔塔古吉拉特邦Dholera晶圆厂供应光刻胶、功能性化学品及硫酸、异丙醇等高纯化学品，双方还将探索这些半导体材料在印度本土化生产，支撑印度半导体制造战略。
住友化学与塔塔电子签署MOU，探讨在印度共建半导体材料供应链
住友化学9月19日宣布与塔塔电子签署谅解备忘录，探讨在印度共建半导体材料供应链，包括可能在当地设立半导体化学品工厂。塔塔电子正建设印度首座前道晶圆厂，住友化学拟以其超高纯化学品技术切入印度半导体生态建设。
东京应化12亿日元韩国平泽厂竣工：集团在韩首个高纯化学品生产基地
东京应化（TOK）9月15日宣布其韩国子公司TOK Advanced Materials位于京畿道平泽的新厂竣工，一期投资约120亿日元建设高纯化学品厂房，为集团在韩首个高纯化学生产基地，2027年上半年投运，就近供应韩国尖端半导体制造客户。
王子控股木质生物基光刻胶通过High-NA EUV验证 实现10nm线宽图案成形
王子控股与比利时imec合作，在High-NA（NA 0.55）EUV光刻EXE:5000装置上用木质生物基光刻胶确认了A14节点适用的10nm线宽与16nm孔径图案，全程不含PFAS。成果将于9月8-11日SPIE会议发表，公司目标2028年实现该材料事业化。
ADEKA扩产EUV光刻胶用光酸发生剂，千叶工厂产能翻倍、2028年9月投产
ADEKA宣布在千叶工厂（袖浦市）既有厂房内新增半导体光刻胶用光酸发生剂（PAG）产线，投资约10亿日元，产能提升至当前约2倍，2027年1月开工、2028年9月商业运行。该产品面向EUV及High-NA EUV先进光刻工艺，公司将供应能力提升计划提前两年落地，配合2026年7月投运的半导体创新中心加速下一代聚合物键合PAG开发。
ADEKA扩产EUV光刻胶用光酸产生剂，千叶工厂产能提升至约2倍
ADEKA宣布在千叶工厂（袖浦市）现有厂房内增设新产线，将先进光刻胶用光酸产生剂（PAG）产能提升至约2倍，计划2027年1月开工、2028年2月完工、2028年9月投入商业化运营。EUV光刻等先进制程拉动高端光刻胶材料需求，公司援引2026年约1.5万亿美元的半导体市场规模预期作为扩产依据。