胶体硅

三菱化学将建超高纯胶体硅新厂，瞄准半导体抛光材料，2028年10月投产

三菱化学宣布将在日本北九州基地建设超高纯胶体硅生产装置，用作半导体抛光液原料。公司采用超高纯四甲氧基硅烷一体化工艺生产该材料，商业运营计划于2028年10月开始。胶体硅是硅片表面抛光和互连层CMP抛光液的关键原料，可实现高材料去除率与纳米级平坦化的兼顾。

B910化工 8月24日 23:48 4