CMP抛光

三菱化学将量产超超高纯胶体二氧化硅，切入尖端半导体CMP抛光材料赛道

三菱化学8月20日宣布将商业化生产用于尖端半导体抛光材料的超高纯胶体二氧化硅，计划在福冈县北九州市九州工厂新建生产装置并启动商业化运营。产品以超高纯四甲氧基硅烷为原料经一体化工艺生产，杂质含量极低，将供应硅晶圆表面抛光与布线层CMP浆料市场。

B910化工 8月21日 06:24 4