三菱化学集团逆转二月退出决定:碳材料业务转为持续经营,为AI数据中心保供沥青基碳纤维原料
三菱化学集团11月5日宣布,撤销今年2月做出的退出焦炭与碳材料业务决定,转为持续经营针状焦、沥青焦产能,原因是AI数据中心需求拉动沥青基碳纤维业务扩张,且外购原料无法达到目标性能,须自产保障原料供应与质量。
共 2 页,B910化工
三菱化学集团11月5日宣布,撤销今年2月做出的退出焦炭与碳材料业务决定,转为持续经营针状焦、沥青焦产能,原因是AI数据中心需求拉动沥青基碳纤维业务扩张,且外购原料无法达到目标性能,须自产保障原料供应与质量。
JFE Steel、三菱瓦斯化学与三菱化学在水岛联合企业启动碳循环供应链示范项目,依托MGC的Carbopath甲醇碳循环平台,将CO2回收与甲醇、化学品生产串联,三方将评估经济性并探索商业化路径。
三家公司宣布自2026年9月起在冈山县仓敷市水岛联合企业启动碳循环供应链实证:JFE供应炼钢副产气,三菱瓦斯化学新建Carbopath实证装置将其制成年产100吨级同品质甲醇,三菱化学再以DTP工艺将该甲醇制成丙烯,打通"副生气—甲醇—丙烯"链条;装置获经产省连续三个年度补助且可移动搬迁。
三菱化学9月28日宣布,决定将全资持有的化学品物流子公司三菱化学物流的全部股份转让给综合物流企业SBS控股。该公司长期承担三菱化学集团产品与原料的运输仓储,此举意在让物流专业企业接管以保障集团物流功能稳定运行,三菱化学物流将借助SBS网络强化化学物流能力。
三菱化学通过旗下风投Diamond Edge Ventures参与美国NLM Photonics的A2轮融资(Pangaea Ventures领投)。NLM基于华盛顿大学20余年有机电光材料研究开发Selerion材料,与硅光器件集形成混合光子集成电路,瞄准更高速率更低功耗的光调制,直面AI数据中心光互连瓶颈。
9月17日消息,三菱化学通过风投子公司Diamond Edge Ventures参与美国华盛顿州初创企业NLM Photonics的A2轮融资(Pangaea Ventures领投),押注有机电光材料在AI数据中心高速低功耗光互连中的应用,强化其KAITEKI愿景下的先进数据处理与通信业务布局。
9月9日,三菱化学通过企业风险投资子公司Diamond Edge Ventures出资美国NLM Photonics,参与其由Pangaea Ventures领投的A2轮融资。NLM基于华盛顿大学20余年有机电光材料研究,其Selerion材料用于硅光子器件,可实现比无机材料更快、更低功耗的光调制,瞄准AI数据中心光互连这一关键瓶颈。
9月1日三菱化学宣布,以植物来源异山梨酯为主要原料的生物工程塑料DURABIO被ALBION限定化妆品EXCIA眼影盒采用。利用DURABIO高透明度与耐久性,与其他透明树脂组合注塑呈现天然贝壳般珠光质感,11月1日起限量发售,拓展生物基材料在高端化妆品领域的应用。
8月31日消息,量子计算公司Xanadu与日本三菱化学宣布建立合作伙伴关系,双方将共同利用量子计算算法推进半导体制造技术的开发。量子计算在分子模拟与多体问题求解上具备经典计算难以企及的潜力,此次合作标志着量子计算正从科研工具走向半导体材料制造研发第一线,为先进制程的工艺与材料开发提供新的计算范式。
三菱化学8月27日宣布商业化新型负热膨胀填料M-Filleris NTE,该材料受热收缩,可在环氧树脂复配时显著降低热膨胀,抑制先进封装下半导体的翘曲。2026财年末开始样品销售,2027财年下半年量产上市。材料在室温至400°C保持负膨胀特性,球形颗粒兼具流动性与分散性,将亮相SEMICON Taiwan 2026。
三菱化学宣布将在日本北九州基地建设超高纯胶体硅生产装置,用作半导体抛光液原料。公司采用超高纯四甲氧基硅烷一体化工艺生产该材料,商业运营计划于2028年10月开始。胶体硅是硅片表面抛光和互连层CMP抛光液的关键原料,可实现高材料去除率与纳米级平坦化的兼顾。
8月24日,住友商事、旭化成、ENEOS、JFE钢铁、三菱瓦斯化学与三菱化学组成的联合体与日本石油天然气和金属矿产资源机构(JOGMEC)签订业务合同,将在冈山县仓敷市水岛工业区开展CO2分离捕集、液化、储存与装船设施的受托设计,目标建设日本最大级别的船舶运输CCS枢纽,预计年外运液化CO2约343万吨,为日本开发中各聚集区之最,将支撑钢铁、化学等难以电气化脱碳产业的绿色转型。
三菱化学宣布商业化先进半导体抛光用超 高纯胶体二氧化硅,将在福冈县北九州市九州工厂建设新生产设施,2028年10月开始商业运营,产品用于硅晶圆抛光剂和CMP抛光液原料,以一体化超 高纯四甲氧基硅烷工艺最大限度降低杂质。
三菱化学8月20日宣布将商业化生产用于尖端半导体抛光材料的超高纯胶体二氧化硅,计划在福冈县北九州市九州工厂新建生产装置并启动商业化运营。产品以超高纯四甲氧基硅烷为原料经一体化工艺生产,杂质含量极低,将供应硅晶圆表面抛光与布线层CMP浆料市场。
三菱化学8月19日宣布,决定商业化面向尖端半导体的超高纯胶体二氧化硅(硅溶胶),用作硅晶圆抛光剂和CMP浆料原料。公司将在北九州市九州工厂福冈地区新建生产设施,2028年10月开始商业运营。产品以四甲氧基硅烷为原料一体化生产,可按客户需求定制粒径与密度,瞄准生成式AI和数据中心驱动的先进半导体材料需求。
三菱化学集团5月25日宣布,其子公司三菱化学已开始评估将基础化学品(以石化为核心)业务拆分为全资子公司,为未来行业整合与并购铺路。公司指出东亚竞争力下降和中东局势冲击是主要动因,目标在2028年3月底前完成实施。公告当日股价上涨6.03%至1090日元,为日本最大化学企业近年来最重大的战略调整。