8月21日消息，日本特种化工企业ADEKA宣布扩产EUV（极紫外）光刻用光酸发生剂（PAG），将在千叶工厂（千叶县袖浦市）既有厂房内新增一条产线，投资额约10亿日元，产能提升至当前的约2倍，计划2027年1月开工、2028年2月竣工、2028年9月开始商业运行，以应对EUV光刻材料的强劲需求。

光酸发生剂是化学放大光刻胶（CAR）的关键组分，用于ArF、EUV等先进光刻工艺。ADEKA在半导体材料业务中将超微细图案化所需的先进光刻应用定位为战略重点，同时布局化学放大光刻胶用光酸发生剂与金属氧化物光刻胶（MOR）用有机金属化合物的双支柱体系。本次扩产将在1 ppb级金属污染控制标准下进一步优化制造运营。

需求侧看，半导体已成为全球经济中的战略材料，全球投资持续加码，半导体市场预计2026年扩张至约1.5万亿美元规模，光刻胶作为半导体微细化的必需材料需求同步增长。同时，光刻技术进步与环保要求（包括向无PFAS材料转型）正将材料性能与质量门槛推向前所未有的水平。

研发方面，位于埼玉县久喜市、2026年7月刚投入全面运营的ADEKA半导体创新中心正在加速面向EUV及High-NA EUV等先进技术节点的PAG单体（聚合物键合型PAG）开发。ADEKA表示，通过本次投资将强化未来需求所需的供应能力，并把这此产能建设计划较原定时间提前两年落地，后续将继续以先进光刻胶用光酸发生剂与MOR用金属化合物为双支柱，扩大半导体材料业务。 （来源：Chemical News Japan）