9月10日消息，SK海力士宣布2025年在韩国国内厂区实现日均17万吨的节水量，累计节约的水资源已超过其设定目标，公司正通过扩大半导体生产过程中的水再利用（water reuse）持续降低用水量。

半导体制造是高耗水产业，晶圆清洗、化学机械抛光、冷却等环节均消耗大量超纯水，一座先进存储晶圆厂日用水量可达十万吨级。随着AI芯片需求推动产能扩张，水资源约束与社区用水竞争正使"水管理能力"成为半导体ESG评价和客户供应链审核（如苹果、英伟达供应链减碳减水要求）中的硬指标。SK海力士通过提高制程水回收率、中水回用与超纯水系统优化等手段降低单位晶圆水耗，其利川、清州等韩国基地所在地区均为用水敏感区，节水成绩直接影响扩产许可与社会声誉。

行业层面，台积电、英特尔、美光等均已设定水回收率或单位产品水耗目标，水资源管理与能源转型并列为半导体制造的两大可持续议题。SK海力士此次公布的成绩为其在HBM产能竞赛中叠加了ESG维度的竞争筹码。 （来源：BusinessKorea）