相分离非晶氧化钽阻变存储器:非成丝型切换却实现22小时@190°C数据保持
密歇根大学Yiyang Li团队在arXiv发表研究,报道了Ta₂O₅/TaOₓ双端阻变存储器:通过相分离非晶氧化钽实现面型(非成丝型)电阻切换,在190°C下数据保持超过22小时,达到最佳成丝型器件水平,首次在双端器件中同时兼得低电流面积型切换与长保持特性,突破ReRAM的核心权衡。
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密歇根大学Yiyang Li团队在arXiv发表研究,报道了Ta₂O₅/TaOₓ双端阻变存储器:通过相分离非晶氧化钽实现面型(非成丝型)电阻切换,在190°C下数据保持超过22小时,达到最佳成丝型器件水平,首次在双端器件中同时兼得低电流面积型切换与长保持特性,突破ReRAM的核心权衡。