富士胶片

共 11 篇,B910化工

富士胶片投资约30亿日元扩建instax拍立得胶片产线:2028年春满产,产能较2026年度提升约两成

富士胶片宣布在神奈川事业场足柄基地投资约30亿日元扩建instax"拍立得"胶片生产设备,应对全球需求扩大。新产线2027年春起陆续投运、2028年春满产,届时胶片产能较2026年度提升约20%、较2022年度累计提升约七成。instax业务2025年度销售额已达2000亿日元,连续五个财年创历史新高。

B910化工 10月22日 12:23 118

富士胶片在福岛广野工厂导入ADC原料制造设备,2028年投产打造日本首个一站式ADC-CDMO服务

富士胶片宣布在集团子公司富士胶片和光纯药运营的福岛县广野工厂导入抗体药物偶联体(ADC)原料制造设备,覆盖 payload 与 linker-payload 的制造及工艺开发实验室,计划2028年投产。叠加预定2027年投产的富士胶片富山化学工厂,集团将实现从linker-payload制造、抗体制造到偶联、制剂的全流程一站式ADC-CDMO服务,为日本国内首创。

B910化工 10月7日 12:15 350

塔塔电子与富士胶片签署战略MoU,共建印度多尔萨德拉半导体材料生态

塔塔电子与日本富士胶片签署战略合作备忘录,围绕古吉拉特邦多尔萨德拉晶圆厂建设半导体材料生态。富士胶片将分阶段投资约800亿卢比(约8300万美元)在当地建设半导体材料厂,并向印度化学品制造商输出技术、质量保证与工艺know-how,推动关键原材料本地化,降低对进口材料的依赖。

B910化工 9月21日 07:17 231

富士胶片电子材料日本大分新楼投产:先进半导体用后CMP清洗剂产能提升至三倍

8月24日消息,富士胶片电子材料(FFEM)宣布其位于日本大分的生产基地新厂房正式投产,将先进半导体(含AI芯片)制造用后CMP清洗剂的产能提升至原来的三倍。该类清洗剂用于CMP工序后去除颗粒、微量金属与有机残留并保护金属表面。2021-2024财年FFEM年均增长约20%,已累计投资逾1000亿日元扩充CMP抛光液、聚酰亚胺及先进封装感光介电材料等产能,并规划随需求继续扩建。

B910化工 8月26日 23:46 238

富士胶片大分工厂后CMP清洗剂新厂房投产,产能扩至三倍瞄准AI半导体需求

富士胶片宣布其电子材料子公司FUJIFILM Electronic Materials在大分工厂新建的后CMP清洗剂生产设施于2026年8月建成投产,产能提升至原来的三倍。受AI、5G和物联网驱动,公司半导体材料业务FY2021-FY2025平均年销售额增速约20%,并预计后CMP清洗剂销售额到FY2030较FY2024翻倍以上。新厂房配备自动化制造与高纯度质量评价设备,屋顶加装光伏以降低运营碳排放。

B910化工 8月22日 18:49 174

富士胶片在菲律宾循环制造中心全面投产,再生机复印机开始向亚太出货

富士胶片商业创新8月19日宣布,2025年7月在菲律宾内湖省设立的循环制造中心(CMC)正式全面投产,7月30日起开始出货再生机ApeosPort-Ⅶ C R系列复印机。该基地回收亚太地区废旧多功能复印机,按使用履历更换磨损部件,制造出与新品同等质量的再生机,目标是构建亚太区域资源循环体系并降低二氧化碳排放。

B910化工 8月21日 06:19 167

CAS分析显示机械化学专利集中于日本企业产业化应用仍滞后

ACS旗下CAS对机械化学领域进行了系统专利分析,发现虽然学术界对无溶剂机械化学研究兴趣高涨,但专利申请数量偏低表明产业化应用滞后。全球领先专利权人为富士胶片,日本企业在该领域最为活跃。IUPAC曾将反应挤出列为将改变世界的十大化学创新之一。

B910化工 8月4日 10:10 213